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高壓氣體凈化技術(shù)在配制電光源標(biāo)準(zhǔn)氣中的使用

目前，由于中國一些高純度氣體，特別是空分氣體的純度不斷提高，市場對一些電光源標(biāo)準(zhǔn)氣的組分含量要求越來越低。通過提高生產(chǎn)和使用單位的水平，國家標(biāo)準(zhǔn)也得到了改進(jìn)。根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)中定義的檢測指標(biāo)，檢測需要各種高質(zhì)量的電光源標(biāo)準(zhǔn)氣。此外，對于醫(yī)院使用的醫(yī)用復(fù)合氣體N2-NO，由于對NO2監(jiān)管的要求越來越低，很難滿足這種電光源標(biāo)準(zhǔn)氣的生產(chǎn)。其最大的“瓶頸”是“零點(diǎn)”天然氣市場不容易購買。

同時(shí)，在氣體處理過程中，系統(tǒng)通過污染引入空氣等某些雜質(zhì)。因此，高壓清潔劑被用于生產(chǎn)N2、H2、He、Ar、O2和NO氣體，高壓氣體清潔技術(shù)也在不斷改進(jìn)和進(jìn)一步發(fā)展。高壓清洗機(jī)及其技術(shù)具有清洗水平高、耐壓高、使用方便、投資省的特點(diǎn)。同時(shí)，該技術(shù)可推廣應(yīng)用于超純氣體的生產(chǎn)和生產(chǎn)。隨著半導(dǎo)體和光電技術(shù)在中國的快速發(fā)展，這項(xiàng)技術(shù)將有廣闊的市場空間。以下是幾種典型氣體終端清潔的簡要介紹。

氮?dú)馇鍧嵠鳎菏褂酶咝撗醮呋瘎妹撗醮呋瘎┑难趸瓦€原特性去除N2中的微量O2。脫氧在室溫下進(jìn)行。催化劑失活后，氫氣用于還原，還原溫度為350-450℃，具有一定的蒸汽排放。然后使用大量N2沖洗或排空，并結(jié)合氮?dú)馇鍧岺2。產(chǎn)品瓶經(jīng)高壓排氣除氧后，氧氣含量可低于0.3PPM（V/V）。這種清潔劑的特點(diǎn)是：耐高壓，非常適合氣體處理；脫氧效果明顯，脫氧能力大，催化劑使用壽命長。我實(shí)驗(yàn)室使用的高氮凈化器已使用五年，效果仍然良好。

氫氣和氦氣清潔劑：該清潔劑填充有兩種類型的耐低溫多孔吸附劑。經(jīng)過良好的換熱設(shè)計(jì)，它可以在低溫條件下吸附，從而有效地去除H2和He中的雜質(zhì)。其純度可達(dá)999999%。由于條件非常惡劣，操作人員必須接受嚴(yán)格的培訓(xùn)和指導(dǎo)，否則很容易發(fā)生安全事故。

用這種方法清洗氫氣的技術(shù)也可以推廣到大型氫氣清洗裝置。這種低溫方法是生產(chǎn)高純度H2的重要方法，因?yàn)樗褂肗2、CO、CH4等。有效去除H2。